®FERAN SSG
Zat anti slip dengan pegangan (handling) yang lembut
Field of application: Proses padding atau aplikasi spray menggunakan WEKO
Chemical Basis: Silicic acid
Ionic Character: Kationik
Form: Larutan
®FERAN SSB
Zat anti slip dengan pegangan (handling) yang lembut
Field of application: Proses padding atau aplikasi spray menggunakan WEKO
Chemical Basis: Silicic acid
Ionic Character: Kationik
Form: Larutan
®FERAN SSG CONC
Zat anti slip konsentrat dengan pegangan (handling) yang lembut
Field of application: Proses padding atau aplikasi spray menggunakan WEKO
Chemical Basis: Silicic acid
Ionic Character: Kationik
Form: Larutan
®FERAN ASR
Zat finishing hidrofilik dan perilis noda untuk serat sintetik, sangat tahan terhadap pencucian
Field of application: Proses padding atau exhaust
Chemical Basis: Preparation of aromatic carboxylic acid compound
Ionic Character: Non-ionik
Form: Larutan
®FERAN ICA
Zat finishing hidrofilik yang tahan terhadap pencucian dan perilisan noda untuk serat sintetik
Field of application: Proses padding atau exhaust
Chemical Basis: Ethoxylated carboxylic acid compound
Ionic Character: Non-ionik
Form: Larutan
®FERAN ICE
Untuk serat sintetik, tahan terhadap pencucian ringan
Field of application: Proses padding atau exhaust
Chemical Basis: Ethoxylated carboxylic acid compound
Ionic Character: Non-ionik
Form: Larutan
®FERAN ICP
Zat finishing hidrofilik yang tahan terhadap pencucian untuk serat sintetik, khususnya untuk serat PA
Field of application: Proses padding atau exhaust
Chemical Basis: Preparation of polyamide
Ionic Character: Non-ionik
Form: Larutan
®FERAN ICS
Dan zat perilis noda untuk serat sintetik, sangat resisten terhadap pencucian
Field of application: Proses padding atau exhaust
Chemical Basis: Preparation of carboxylic acid ester
Ionic Character: Non-ionik
Form: Larutan